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당사는 한국표준산업분류상 그 외 기타 화학제품 제조업(C2049)에 속하는 회사로 반도체용 정밀화학 소재를 전문적으로 개발 및 생산하는 기업으로 글로벌 반도체 소재 선도 기업을 목표로 하고 있습니다. 당사는 반도체용 정밀화학 소재를 전문으로 생산하는 기업으로, 반도체 제조 공정 중 노광 공정 및 세정 공정에 사용되는 소재(Polymer, PAG, PERR 중간체 등)를 생산ㆍ판매하는 사업을 영위하고 있습니다. 당사가 생산하는 제품은 포토레지스트(PR)용 핵심 소재 및 세정액의 원료 또는 중간체로서, 포토레지스트(PR) 및 세정액 제조업체에 공급되고 있으며, 해당 업체들은 배합ㆍ농축ㆍ합성 등의 추가 가공을 거쳐 최종적으로 반도체 생산업체에 납품하고 있습니다. (1) 노광 공정 노광 공정은 빛에 반응하는 성질을 이용해 설계 마스크 위로 빛을 투과해 포토레지스트(PR)가 도포된 웨이퍼 위로 미세 회로를 형성하는 공정입니다. 반도체 8대 공정 중 핵심 공정에 해당하며, 전체 제조 공정에서 높은 공정 비중과 비용 비중을 차지하는 것으로 알려져 있습니다. 포토레지스트(PR)는 용매, 고분자(Polymer), 광산발산제(PAG), 첨가제 등으로 구성되며, 당사는 노광 공정에서 사용되는 포토레지스트의 핵심 소재인 고분자(Polymer)와 광산발산제(PAG)를 개발ㆍ생산하고 있습니다.
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