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당사의 주 목적사업은 반도체 및 디스플레이 공정 장비용 부품에 적용되는 내식성과 내플라즈마성을 제고하는 보호코팅을 위한 코팅소재의 제조 및 코팅입니다. 반도체 건식식각 장비 부품에 부식가스에 의한 식각 손상, 오염 물질 및 입자 발생을 방지하기 위하여 각각 특성과 사양에 맞는 보호코팅을 적용하고 있습니다. 이러한 내식성 및 내플라즈마 특성의 보호코팅 소재는 대표적으로 산화이트륨(Y2O3)이 적용되고 있으며, 최근에는 야그(YAG: Y3Al5O12)가 신규소재로써 점차 도입되고 있습니다. 동사는 물리적 기상증착방식(PVD)을 활용한 초고밀도 코팅을 직접 개발 및 제조하여, 상부, 측면, 하부 각각의 부품에 적용할 수 있는 각 사양의 코팅층과 코팅이 응용된 부품을 제작하거나, 오염된 부품을 세정 및 코팅하고 있습니다. 반도체의 고효율화 및 디스플레이의 고도화 등으로 인하여 건식식각 공정의 환경이 급격하게 혹독해지며, 2020년 사업연도 이후부터 당사의 주력 제품인 초고밀도 SD코팅이 고객사로부터 본격적으로 채택되기 시작하여 외형성장이 지속되었습니다. 아울러 당사는 이러한 희토류 소재의 개발 및 코팅기술 등을 응용하여 초전도선재의 제조기술에 대한 공정관련 지식재산권을 보유하고 있으며, 이를 바탕으로 2021년 초전도선재 IBAD 장비제작 사업에도 진출한 바 있습니다. 또한 2028년까지 종속기업 (주)래티스는 초전도선재를 직접 양산 하여 초전도선재산업에 본격적으로 진입 할 예정 입니다.
반도체 장비 · 희귀금속(희토류 등)
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